研究紹介 : 放射線グラフト重合による機能性高分子材料の開発
・放射線グラフト重合技術の特長
・クリーンルーム用イオン交換ケミカルフィルタ(EPIX®フィルタ)
・半導体産業向け金属除去フィルタ
・電気透析脱塩装置(電気式純水製造装置:GDI)
・連続式グラフト重合製造装置
半導体産業向け金属除去フィルタ

 半導体産業では、ウエハの洗浄・加工工程等で使用する純水や薬液に高い清浄度が要求され、特に金属不純物の混入は近年厳しく管理されています。日本インテグリス社との共同開発により、高流速でも優れた金属除去性能を発揮するフィルタの開発に成功し(2003年)、2007年には耐熱性金属除去フィルタも商品化しました。本フィルタは、原子力発電所の放射性金属酸化物(クラッド:CRUD)除去にも威力を発揮します。

図3 半導体産業向け金属除去フィルタ:ProtegoR
半導体産業向け金属除去フィルタ:Protego®
 
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